高飽和光學(xué)變色材料研磨粉碎設(shè)備研磨分散機

高飽和光學(xué)變色材料研磨粉碎設(shè)備研磨分散機，含鈦光學(xué)變色材料粉碎型研磨分散機，含鉻光學(xué)變色材料濕法粉碎機、全介質(zhì)光學(xué)變色材料濕法研磨分散機
光學(xué)變色材料具有與觀察角度相關(guān)的顏變色化現(xiàn)象，觀察者在不同的角度能觀察到不同的顏色，特別是在和光學(xué)變色薄膜表面的法線方向呈0度角或60度角左右觀察時，光學(xué)變色薄膜將呈現(xiàn)出明顯不同的顏色。光學(xué)變色材料由于該特性而廣泛應(yīng)用于防偽、印刷等域。然而，隨著生產(chǎn)生活當(dāng)中各方面要求的不斷提高，當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)變色材料在耐酸、耐堿、色彩等方面在諸多域已難以滿足使用需求。
然而對光學(xué)變色材料進行熱處理，需要對光學(xué)變色材料進行粉碎處理，以得到粉碎的光學(xué)變色材料
cmsd2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過粉碎型研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果，出料粒徑可以微納米。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點
1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
ikn 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率v= 3.14 x d（轉(zhuǎn)子直徑）x 轉(zhuǎn)速 rpm / 60
cmsd2000系列研磨分散機選型表
型號
流量
l/h
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
dn
cmsd 2000/4
300
14000
41
4
dn25/dn15
cmsd 2000/5
1000
10500
41
11
dn40/dn32
cmsd 2000/10
4000
7200
41
22
dn80/dn65
cmsd 2000/20
10000
4900
41
45
dn80/dn65
cmsd 2000/30
20000
2850
41
90
dn150/dn125
cmsd 2000/50
60000
1100
41
160
dn200/dn150
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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