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        1.tin—lead alloy plating :錫鉛合金電鍍作為焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.
        2.nickel plating 鎳電鍍現在電子連接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上為一般規格,較低的規格為30µ``,(可能考慮到折彎或者成本)3.gold plating 金電鍍為昂貴的電鍍加工,故一般電子業在選用規格時,考慮到其實用環境、使用對象,制造成本,若需通過一般強腐蝕實驗必須在50µ``以上 。董光射線裝置(xrf)測量膜厚試驗方法:
        x射線的能量穿過金屬鍍層的同時,金屬元素其電子會反射其穩定的能量波譜。通過這樣的原理,我們設計出:膜厚測試儀也可稱為膜厚測量儀,又稱金屬涂鍍層厚度測量儀,其不同之處為其即是薄膜厚度測試儀,也是薄膜表層金屬元素分析儀。
        射線衍射裝置(xrd)測量膜厚試驗方法:
        簡單地說黃光射線裝器(xrf)和射線衍射裝(xrd)有何不同,黃光射線裝器(xre)能得到某質中的元素信息(物質構成,組成和鍍其厚度)x射線衍射裝置(xrd)能得到某物質中的結晶信息。

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