光刻膠公司-光刻膠-北京賽米萊德(查看)
光刻膠的參數(shù)介紹
1．對(duì)比度（co*ast）
對(duì)比度指光刻膠從*區(qū)到非*區(qū)過渡的陡度。 對(duì)比度越好，越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。
2．粘滯性/黏度 （viscosity）
衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度，而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。
3．*蝕性（anti-etching）
光刻膠必須保持它的粘附性，在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、*刻蝕能力和*離子轟擊能力。
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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
注意事項(xiàng)：
①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；
②看光刻機(jī)型式，若是投影方式，用常規(guī)負(fù)膠時(shí)氮?dú)猸h(huán)境可能會(huì)有些問題
③負(fù)性膠價(jià)格成本低，光刻膠公司，正性膠較貴；
④工藝方面：負(fù)性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：負(fù)性膠為有機(jī)溶液處理，不利于環(huán)境；正性膠屬于水溶液，光刻膠供應(yīng)商，對(duì)健康、環(huán)境無害。
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光刻膠相關(guān)信息
賽米萊德——光刻膠供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?br>光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍非常廣，上游為基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細(xì)*行業(yè)，中游為光刻膠制備，光刻膠廠家，下游為電子加工廠商、各電子器產(chǎn)品應(yīng)用終端。由于上游產(chǎn)品直接影響下游企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量，下業(yè)企業(yè)對(duì)公司產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視，常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式，進(jìn)入壁壘較高。
在下游半導(dǎo)體、lcd、pcb等行業(yè)需求持續(xù)擴(kuò)大的拉動(dòng)下，光刻膠，光刻膠市場(chǎng)將持續(xù)擴(kuò)大。2018年光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為85億美元，2014-2018年復(fù)合增速約5%。據(jù)ihs，未來光刻膠復(fù)合增速有望維持5%。按照下游應(yīng)用來看，目前半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%，lcd 光刻膠占比26.6%，pcb 光刻膠占比24.5%，其他類光刻膠占比24.8%。
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