深圳光譜鍍層測(cè)厚儀通過這些方法避免誤差

光譜鍍層測(cè)厚儀是將光打到樣品上時(shí)，樣品分子會(huì)使入射光發(fā)生散射，若部分散射光的頻率發(fā)生改變，則散射光與入射光之間的頻率差。本儀器主要就是通過確定物質(zhì)的分子結(jié)構(gòu)，針對(duì)固體、液體、氣體、**物、高分子等樣品均可以進(jìn)行定性定量分析。 接下來和一六一起了解光譜鍍層測(cè)厚儀通過這些方法避免誤差。
盡管光譜鍍層測(cè)厚儀具有很高的精度，但是由于許多因素的影響，仍然存在一定的誤差，那么如何才能巧妙地避免本儀器的誤差呢?
1、系統(tǒng)誤差的來源
(1)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的含量和化學(xué)組成不相同時(shí)，可能會(huì)導(dǎo)致矩陣線和分析線的強(qiáng)度發(fā)生變化，從而引入錯(cuò)誤。
(2)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品的物理性質(zhì)和樣品的物理性質(zhì)不相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線將不同，這將導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(3)當(dāng)處于澆鑄狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)與處于退火，淬火，回火，熱軋和鍛造狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)不同時(shí)，測(cè)得的數(shù)據(jù)將有所不同。
(4)未知元素光譜的重疊干擾。例如，在熔煉過程中添加脫氧劑和脫硫劑時(shí)，未知的合金元素會(huì)混入系統(tǒng)中，從而導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(5)為了系統(tǒng)誤差，有必要嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備的要求。為了檢查系統(tǒng)錯(cuò)誤，有必要使用化學(xué)分析方法來分析多次校對(duì)的結(jié)果。
2、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少，因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結(jié)構(gòu)的不均勻性會(huì)導(dǎo)致不同部位的分析不同，并偶爾出現(xiàn)誤差。
(1)在熔煉過程中引入夾雜物，導(dǎo)致偏析導(dǎo)致樣品中元素分布不均。
(2)樣品的缺陷，氣孔，裂縫，水泡等。
(3)諸如交叉研磨模式，樣品研磨的過熱，樣品研磨表面的時(shí)間過長(zhǎng)以及指紋等因素。
(4)為了減少意外誤差，必須仔細(xì)取樣以樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復(fù)分析幾次以減少分析誤差。
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