掩膜板-光刻版(圖)

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！
光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過*將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。
作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。
光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業，下游主要包括ic制造、ic封裝、平面顯示和印制線路板等行業，應用于主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設備）、筆記本電腦、車載電子、網絡通信、家用電器、led 照明、物聯網、電子等終端產品。
目前全球范圍內光刻掩膜版主要以生產商為主。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產線的投入產出比很低，且光刻掩膜版行業具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由的生產商進行生產。
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石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，掩膜板，含泥質、鈣質石英砂巖，膠體沉積的硅質巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質巖和與火山噴氣有關的硅質巖）和深海蟲硅質巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據結構、變晶程度、副產物、巖石共生組合及產狀等加以區分。
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