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多弧離子pvd鍍膜設(shè)備鍍工藝及應(yīng)用
離子鍍基本工藝流程
①工件的預(yù)熱．
一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進(jìn)行加熱，而熱陰*離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達(dá)到預(yù)熱的目的，有時(shí)電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進(jìn)行預(yù)熱。
②離子轟擊濺射清洗．
一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負(fù)偏壓，利用輝光放電產(chǎn)生的ar離子轟擊基片，對基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗，而熱陰*離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，ar離子轟擊基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時(shí)對工件進(jìn)行離子轟擊濺射清洗。
③離子沉積.
不同的離子鍍方法在離子沉積時(shí)，所使用的源和離化方法不同，具體的設(shè)備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數(shù)也不同，因此，應(yīng)根據(jù)具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數(shù)，還應(yīng)注意在整個(gè)沉積過程中保持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。
光學(xué)真空鍍膜機(jī)清洗和*方法
光學(xué)薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說，平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。光學(xué)鍍膜技術(shù)以及普及到人們生活方方面面，因此光學(xué)真空鍍膜機(jī)也是大家目前非常關(guān)注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學(xué)真空鍍膜機(jī)在平時(shí)運(yùn)行的時(shí)候該如何清洗和*問題，希望能讓大家對光學(xué)真空鍍膜機(jī)多一些了解。
首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機(jī)的清洗問題：設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí)，應(yīng)對工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈。
因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時(shí)，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。
真空鍍膜機(jī)磁控濺射主要工藝流程：
1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；
2、抽真空，真空須控制在2×104pa以上，以保證薄膜的純度；
3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結(jié)合力，需要對基片進(jìn)行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；
4、ar氣分壓，一般選擇在0.01~1pa范圍內(nèi)，以滿足輝光放電的氣壓條件；
5、預(yù)濺射，預(yù)濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質(zhì)量；
6、濺射，ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達(dá)基片表面沉積成膜；
7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數(shù)有差異，結(jié)合力小，退火時(shí)薄膜與基片原子相互擴(kuò)散可以有效提高粘著力。
真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復(fù)性比較好，附著力強(qiáng)。
依據(jù)濺射源的不同，真空鍍膜機(jī)磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區(qū)別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機(jī)射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產(chǎn)品使用的是射頻磁控濺射鍍。