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多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產品、器械、儀器儀表等領域。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備在真空條件下采用物*相沉積技術，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術、柱形靶及磁控油射離子鍍技術有機結合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備制造簡單，使用方便，運行成本低*，經濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。
新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝
磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。
其實從一般的金屬靶材濺射、反應濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領域的發(fā)展趨勢。低壓濺射的關鍵問題是在低壓(一般是指lt;011pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術中不足以維持靶材表面的輝光放電,導致濺射沉積無法繼續(xù)進行。通過優(yōu)化磁場設計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術可以實現(xiàn)在10-2pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現(xiàn)更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以*大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應提高等。目前,已經實現(xiàn)了靶材功率密度超過100w/cm2,沉積速率超過1μm/min。
真空鍍膜設備離子鍍膜上的方法
真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內，真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項技術指標都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術上有哪些？
1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。
2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經任何處理。