拋光墊應用-新光速光電(在線咨詢)-溫州拋光墊
在氧化拋光液分別在不添加分散劑和添加氧化分散劑2種情況下zeta電位隨著ph值的變化情況，可以看出，無論是否加入分散劑，溫州拋光墊， ph值對氧化粉體
的懸浮性都有很大影響，隨著ph值的*或減小， zeta電位逐漸變大，拋光液懸浮性逐漸變好。尤其是添加分散劑后，拋光液的zeta電位都向負值
方向移動，且迅速*。當ph值為11左右時，氧化拋光液懸浮性。
磨料在粒徑大小可影響到磨粒的壓強及其切入工件的深度。一般來說 ，在拋光過程中，聚氨酯拋光墊， 粒徑大的磨粒壓強大，拋光墊的作用，機械去除作用較強，材料去除率較高。所以
粒徑較大的磨粒容易在拋光表面產生較大的殘留劃痕甚至殘留裂紋;而粒徑較小的磨粒可獲得較好的拋光表面質量。另外在磨粒直徑相同的情況下，球形
磨粒比表面不平的磨粒去除效率更高。
2 ph值調節劑
拋光液中常常添加一些化學*用于調節拋光液的ph值。以保證拋光過程化學反應的進行。化學機械拋光拋光液一 般分為酸性和堿性兩大類。
拋光墊表面溝槽形式(平行與垂直交叉型或同心環形)、溝槽形狀(v型、u型或楔型)、溝槽方向以及溝槽尺寸(深度、寬度和間距)等對磨料的分布和流動、拋光墊的壽命有著顯著的影響。采用表面開有圖1所示不同深度槽的兩種阻尼布拋光墊的拋光實驗
福吉結果表明：當整個拋光墊表面的槽足夠深時，槽的深度對拋光過程沒有影響，但拋光墊表面任何位置的槽磨損會影響到拋光過程甚至致使工件表面質量(工件表面不均勻性)惡化。
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